邀请函 - SEM晶体缺陷定量定性分析技术(cECCI)研习班

来源:cqleio 发布时间:2024-05-06 08:00:55 点击数:

SEM晶体缺陷定量定性分析技术(cECCI)研习班


5月31日,蔡司邀请德国马普所显微表征领域专家Stefan Zaefferer 博士,共同举办“SEM晶体缺陷定量定性分析技术”大中华区研习班。作为国际知名科学家,Dr. Stefan不仅将为我们介绍专门用于SEM中位错、层错等晶体缺陷定量定性分析的cECCI方案,还将进行该技术的操作教学与培训。

图片关键词


cECCI(Controlled Electron Channeling Contrast Imaging)

可控电子通道衬度成像

清晰的晶体缺陷表征与分析通常被认为只能在透射电镜(TEM)中完成,由此对制样流程、拍摄技巧(双束条件)都存在较高要求,可表征范围也较小。


而cECCI是可以在扫描电镜(SEM)中实现清晰的晶体学缺陷快速定量定性与分析的技术,它基于晶格错排造成的背散射信号差异来实现,同时兼具了SEM中制样简单(仅需抛光)、可表征范围大(整个样品),TEM中可统计位错密度、确定柏氏矢量的优点。在此基础上,Dr. Stefan大大简化了cECCI的操作流程,可以快速获得双束条件,降低了该技术的上手门槛,有助于帮助金属、陶瓷、半导体等领域的用户开展快速而准确的晶体缺陷分析。


欢迎全国存在快速晶体缺陷表征与分析需求的相关领域研究学者,报名参加此次研习班。


SEM晶体缺陷定量定性分析技术(cECCI)

时间:5月31日

地点:上海市浦东新区美约路60号 蔡司客户中心

形式:线下参会/线上直播

(为了保证演示效果,上机部分仅线下展示)

内容:

cECCI技术方案介绍

cECCI技术上机操作教学与培训

语言:中文/英文

特邀嘉宾:Stefan Zaefferer 博士

马普所 “显微学与衍射 ”研究组负责人



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2000 年以来,Dr. Stefan一直担任 MPIE “显微学与衍射 ”研究组负责人。在此期间,主要从事 SEM 和 TEM中电子衍射技术、晶体取向测定、晶格缺陷表征技术的开发与应用,率先发展了基于SEM的cECCI技术,并将这些方法广泛应用于显微结构表征、变形机理等研究中。已发表SCI文章140余篇,被引超万次。

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点击报名线上/线下参与


*注:

线下报名截止时间:5月17日;

由于场地限制,报名线下参与的老师,蔡司将在报名截止后以电话的形式和您确认最终报名信息。


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