邀请函 - SEM晶体缺陷定量定性分析技术(cECCI)研习班
来源:cqleio
发布时间:2024-05-06 08:00:55
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SEM晶体缺陷定量定性分析技术(cECCI)研习班
5月31日,蔡司邀请德国马普所显微表征领域专家Stefan Zaefferer 博士,共同举办“SEM晶体缺陷定量定性分析技术”大中华区研习班。作为国际知名科学家,Dr. Stefan不仅将为我们介绍专门用于SEM中位错、层错等晶体缺陷定量定性分析的cECCI方案,还将进行该技术的操作教学与培训。
cECCI(Controlled Electron Channeling Contrast Imaging) 可控电子通道衬度成像 清晰的晶体缺陷表征与分析通常被认为只能在透射电镜(TEM)中完成,由此对制样流程、拍摄技巧(双束条件)都存在较高要求,可表征范围也较小。 而cECCI是可以在扫描电镜(SEM)中实现清晰的晶体学缺陷快速定量定性与分析的技术,它基于晶格错排造成的背散射信号差异来实现,同时兼具了SEM中制样简单(仅需抛光)、可表征范围大(整个样品),TEM中可统计位错密度、确定柏氏矢量的优点。在此基础上,Dr. Stefan大大简化了cECCI的操作流程,可以快速获得双束条件,降低了该技术的上手门槛,有助于帮助金属、陶瓷、半导体等领域的用户开展快速而准确的晶体缺陷分析。
欢迎全国存在快速晶体缺陷表征与分析需求的相关领域研究学者,报名参加此次研习班。
SEM晶体缺陷定量定性分析技术(cECCI) 点击报名线上/线下参与 *注: 线下报名截止时间:5月17日; 由于场地限制,报名线下参与的老师,蔡司将在报名截止后以电话的形式和您确认最终报名信息。